AMD и IBM: первый успех на пути к 22-нм техпроцессу
Компания AMD совместно с IBM изготовила образец микросхемы, в которой первый слой металлических соединений целиком создан с помощью EUV-литографии. В дальнейшем ученые должны убедиться, можно ли применять EUV-литографию для изготовления всех слоев микросхемы. Благодаря данной технологии в 2016 г. индустрия сможет перейти на 22-нм технологический процесс.
Компании AMD и IBM объявили о получении «полномасштабного» пробного рабочего образца микросхемы, в которой первый слой металлических соединений создан с помощью EUV-литографии (литографии с использованием жесткого ультрафиолетового излучения).
Предыдущие образцы, полученные с помощью EUV-литографии, не были «полномасштабными», поскольку при их производстве EUV-литография была задействована лишь для малой части микросхемы.
Пробный образец микросхемы размером 22 x 33 мм был изготовлен с использованием 45-нм технологии.
Сначала пробная микросхема AMD прошла обработку на фабрике Fab 36 в Дрездене, Германия. Затем подложка с пробной микросхемой была передана в исследовательский центр IBM, находящийся в Олбани, штат Нью-Йорк, где при помощи сканера был перенесен первый слой металлических соединений между транзисторами, изготовленными в Германии. Результаты были представлены доктором Бруно Ла Фонтеном (Bruno La Fontaine) из AMD.
«Эта важная демонстрация потенциала EUV-литографии, которая будет использоваться в полупроводниковом производстве в грядущие годы, вдохновляет всех нас, — говорит Фонтен. — Хотя предстоит еще немалая работа, прежде чем EUV-литография сможет использоваться в крупномасштабном производстве».
Следующим шагом проверки применимости EUV-литографии в производстве станет использование технологии не только для металлических соединений, но и для всех слоев микросхемы.
К 2016 г. чипы AMD, возможно, будут изготавливаться по 22-нм техпроцессу
Литография позволяет переносить на множество слоев кремниевой подложки сложные микросхемы с миллионами транзисторов. То, насколько миниатюрными могут быть транзисторы и их соединения, напрямую зависит от длины волны света, используемого для переноса схемы на подложку. В EUV-литографии используется длина волны 13,5 нм, которая значительно короче применяемой сегодня в литографии длины волны 193 нм.
EUV-литография должна быть полностью проверена и допущена к производству до 2016 г., на который запланировано введение 22-нм технологического процесса. Современные микросхемы имеют топологический уровень 45 нм. Такие чипы выпускает, например, Intel, однако сама AMD планирует приступить к производству аналогичных микросхем только во II половине 2008 г.
К середине 2026 года ландшафт корпоративных коммуникаций в России окончательно стабилизировался вокруг решений, обеспечивающих максимальную независимость от внешних факторов и тяжелой сетевой инфраструктуры. В условиях, когда акцент сместился на оптимизацию внутренних ресурсов и импортозамещение программного стека, на первый план вышли инструменты, позволяющие автоматизировать сбор информации от конечных потребителей без использования клиентских приложений.
В индустрии коммерческих беспилотников произошел качественный сдвиг. Если раньше основным критерием выбора были полетные характеристики самого аппарата (грузоподъемность, автономность, оптика), то сегодня аппаратная часть превратилась в «коммодити» — стандартизированный товар. На первый план вышла задача оркестрации: как интегрировать данные с десятков устройств в корпоративный контур и обеспечить их автономную работу без участия целой армии пилотов.
В условиях глобальной цифровизации бизнес-процессы претерпевают серьезные изменения, где ключевым фактором успеха становится скорость и качество взаимодействия с клиентами. Эффективная настройка связи позволяет компаниям сохранять мобильность и масштабироваться без привязки к конкретной локации.
В современных реалиях информационная безопасность перестала быть исключительной прерогативой крупных корпораций с неограниченными бюджетами. Каждый предприниматель, запускающий даже небольшой интернет-магазин или сервис по подписке, сталкивается с необходимостью защиты конфиденциальных сведений. Утечка личных данных клиентов или взлом административной панели сайта могут нанести непоправимый репутационный ущерб, восстановить который будет крайне сложно.
Рынок digital-маркетинга за последние годы сильно усложнился. Если раньше можно было настроить один канал и получать заявки, то сегодня конкуренция требует комплексного подхода.
новости
